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奧林巴斯工業(yè)顯微鏡在工業(yè)用途中，一般是在金屬礦物切片、半導體晶圓和電子零部件等標本沒有被遮蓋的狀態(tài)下進行觀察到。因此，奧林巴斯顯微鏡工業(yè)用物鏡采用了物鏡前端和標本之間沒有蓋玻片狀態(tài)的佳光學系統(tǒng)設計。
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